Исследование процесса реактивного ионно-лучевого травления кварцевых резонаторных структур

Низкотемпературную неравновесную плазму перспективно применять для травления кварца, который широко используется в качестве материала чувствительного элемента твердотельного волнового гироскопа [1], корпусов специализированных микросхем, подложек для ГИС СВЧ и устройств на поверхностных акустических волнах [2]. Плазменное травление кварца можно применять как для удаления «трещиноватого» слоя, возникающего при его механической обработке, так и для его высокоточной размерной обработки, что избавит от необходимости анизотропного травления в плавиковой кислоте, применяемого в настоящее время. Специализированного оборудования для высокоточной размерной обработки кварца промышленностью не выпускается, поэтому необходима модернизация уже имеющихся установок ионно-плазменного травления.

Целью настоящей работы является получение мезоструктур для кварцевых резонаторов и сравнение характеристик со структурами получаемых методом анизотропного травления в плавиковой кислоте.

Определены оптимальные режимы процессов реактивного ионно-лучевого травления кварца в различных хлорсодержащих газах, возможности использования твердотельного источника фтора для ионно-лучевого травления кварца, определены оптимальные режимы ионно-лучевых и ионно-плазменных процессов полировки кварца.