Регистрация / Вход
Прислать материал

Моделирование процесса реактивного ионно-лучевого распыления нитрида кремния

Фамилия
Саурык
Имя
Бекжан
Отчество
Айдынулы
Номинация
Нанотехнологии
Институт
Новых материалов и нанотехнологий (ИНМиН)
Кафедра
Технологии материалов электроники
Академическая группа
ММК-15-1
Научный руководитель
д., к.т.н., Курочка С.П.
Название тезиса
Моделирование процесса реактивного ионно-лучевого распыления нитрида кремния
Тезис

 

Реактивное ионное-лучевое распыление – широко применяемая технология для осаждения диэлектрических пленок, что обусловлено увеличением степени интеграции и повышением функциональных воздействий твердотельных микропроцессов.  Получение диэлектрических пленок с заданными электрофизическими и структурными свойствами зависит от многочисленных взаимосвязанных параметров процесса реактивного ионно-лучевого распыления (РИЛР).

Главной задачей этой технологии является повышение скорости осаждения. Во многих случаях эта задача решается подбором параметров процесса в узкой критической области обработки между металлом и распыляемым соединением. Для оптимального решения используется компьютерное моделирование процесса. Моделирование сложных процессов позволяет понять моделируемый процесс и сократить количество экспериментов, необходимых для поиска оптимального режима. Это особенно актуально для такого процесса как реактивное распыление, параметры которого сложным образом зависят друг от друга. Как известно, для реактивного распыления уже существует хорошо разработанная модель Берга. Она достаточно хорошо опробована на многих реактивных процессах. Однако ей присущ существенный недостаток: она охватывает не все реактивные процессы, а только такие, в которых газ взаимодействует с металлом без какой–либо дополнительной активации, например ионизацией.

Целью данной работы является получение диэлектрических пленок нитрида кремния с заданными параметрами.

Достигнуты оптимальные режимы формирования пленок Si3N4, с определенными разрядным напряжением и разрядным током ионного источника, при которых обеспечивается максимальная скорость нанесения пленок с заданными свойствами.