Разработка технологии химического синтеза из газовой фазы тонкопленочных материалов, обеспечивающих создание структур для устройств памяти.
Шифр лота
2005-ИН-13.1/003
Количество поданных заявок
2
Статус лота
Конкурс завершен
Способ размещения заказа
Информация отсутствует
Дата вскрытия
12.05.2005 00:00
Продолжительность работ
2005 - 2006, 23 мес.
Бюджетные средства
10 млн
Внебюджетные средства
0 млн
Разработка технологии осаждения из летучих комплексных и элементоорганических соединений диэлектрических пленок с различными значениями диэлектрической проницаемости; слоев нанокластеров, встроенных в диэлектрик, для создания образцов устройств памяти.
Заявки
Тема
Разработка технологии химического синтеза из газовой фазы тонкопленочных материалов, обеспечивающих создание структур для устройств памяти.
Исполнитель
Томский государственный университет, НИ ТГУ, ТГУ
Статус
Победитель
Номер заявки
Заявка №2005-ИН-13.1/003/020
Разработка технологии химического синтеза из газовой фазы тонкопленочных материалов, обеспечивающих создание структур для устройств памяти.
Тема
Разработка технологии химического синтеза из газовой фазы тонкопленочных материалов, обеспечивающих создание структур для устройств памяти.
Исполнитель
ИНХ СО РАН
Статус
Конкурс завершен
Номер заявки
Заявка №2005-ИН-13.1/003-016
Программа
Программа "Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития науки и техники" на 2002-2006 годы
Программное мероприятие
1.3 Прикладные разработки в рамках системы приоритетных направлений
Тема
Разработка кластерной технологии планаризации поверхности
полупроводниковых, диэлектрических и металлических материалов для создания нового поколения приборов и устройств для различных отраслей промышленности
Продолжительность работ
2014 - 2016, 26 мес.
Бюджетные средства
80 млн
Количество заявок
2
Тема
Разработка метода получения наноструктурированных металлических элементов на поверхности диэлектриков с использованием лазерного осаждения металла из жидкой фазы для создания элементов устройств современной фотоники и микроэлектроники с участием научных организаций Финляндии.
Продолжительность работ
2009 - 2010, 12 мес.
Бюджетные средства
4 млн
Количество заявок
1
Тема
Разработка нового класса функциональных полупроводниковых структур на подложках из широкозонных полупроводников и диэлектриков.
Продолжительность работ
2017 - 2018, 14 мес.
Бюджетные средства
27 млн
Количество заявок
0
Тема
Разработка композиций и методов получения тонкопленочных покрытий для электрохромных устройств на основе электроактивных полимеров.
Продолжительность работ
2008, 2 мес.
Бюджетные средства
2,5 млн
Количество заявок
2
Тема
Разработка методов атомно-слоевого осаждения диэлектрических, полупроводниковых и металлических покрытий на наноструктурированные поверхности.
Продолжительность работ
2008, 2 мес.
Бюджетные средства
2,5 млн
Количество заявок
1