Регистрация / Вход
Прислать материал

Разработка метода нанотомографии и создание аппаратуры для измерений геометрических параметров и топологии наноструктур скрытых под поверхностью

Стадии проекта
Предложение принято
Конкурс завершен
Выполнение этапа проекта
Проект
01.648.12.3017
Продолжительность работ
2008 - 2011, 30 мес.
Бюджетные средства
18 млн
Внебюджетные средства
2 млн

Разработка метода нанотомографии и создание средств измерений для обеспечения единства геометрических параметров наноструктур, с многоуровневой топологией на основе технических средств и методов электронной томографии и пространственной туннельной спектроскопии.

Участники проекта

Зам. руководителя работ
Орешкин Андрей Иванович
Зам. руководителя работ
Евстафьева Екатерина И

Этапы проекта

1
30.10.2008 - 29.11.2008
2. Характеристика выполненных на этапе работ по созданию продукции
2.1. Результатом работы на этапе 1 является: анализ научно-технической литературы, нормативно-технической документации и других материалов, относящихся к разрабатываемой теме; выбор и обоснование выбора способов решения задач поставленных в ТЗ; разработка концепции нанотомографического метрологического комплекса; разработка номенклатуры документации по создаваемому нанотомографическому метрологическому комплексу.
2.2. В настоящее время в мировой практике осуществляются измерения геометрических параметров и топологии структур (методами электронно-зондовой микроскопии), только в латеральном направлении. Нанотомографический метрологический комплекс средств, создаваемый в рассматриваемом проекте направлен на измерение геометрических параметров и топологии наноструктур скрытых под поверхностью в глубь образца, т. е. разрабатываемый комплекс ориентирован на количественное глубинное профилирование, в чем и заключается уникальность, и приоритет в мире, предложенного проекта.
2.3. Анализ научно-технической литературы, нормативно-технической документации и других материалов, относящихся к разрабатываемой теме показал, что основной особенностью проекта является возможность измерения, создаваемым нанотомографическим метрологическим комплексом, геометрических параметров и топологии оптически непрозрачных наноструктур вглубь образца (z-координата или глубинное профилирование), что подтверждено анализом научно.
Развернуть
2
30.11.2008 - 31.12.2008
2.1. Результатом работы на этапе 2 является: анализ научно-технической литературы, нормативно-технической документации и других материалов, относящихся к разрабатываемой теме; выбор и обоснование выбора способов решения задач поставленных в ТЗ; разработка концепции методик выполнения измерений для обеспечения единства измерений геометрических параметров и топологии оптически непрозрачных наноструктур, скрытых под поверхностью, методами сканирующей туннельной микроскопии и сканирующей электронной микроскопии с помощью отраженных электронов и катодолюминесценции.
Развернуть
3
01.01.2009 - 30.06.2009
Результатом работы является: проектный облик разработанного опытного образца нанотомографического метрологического комплекса средств измерений геометрических параметров наноструктур, скрытых под поверхностью, на основе сканирующего электронного и туннельного микроскопов; проектный облик разработанных образцов эталонных мер с многоуровневой топологией (3 комплекта - в части сканирующей туннельной и электронной микроскопии с помощью отраженных электронов и в режиме катодолюминесценции); разработанные проекты методики выполнения измерений геометрических параметров и топологии оптически непрозрачных наноструктур, скрытых под поверхностью, для обеспечения единства измерения (3 шт. - в части сканирующей туннельной и электронной микроскопии с помощью отраженных электронов и в режиме катодолюминесценции).
Развернуть
4
01.07.2009 - 31.12.2009
- изготовлены образцы эталонных мер с многоуровневой топологией (3 комплекта - в части сканирующей туннельной и электронной микроскопии с помощью отраженных электронов и в режиме катодолюминесценции);
- проведены испытания опытных образцов эталонных мер с многоуровневой топологией (3 шт.)
- разработана методика определения атома примеси и его местоположения в полупроводниковой матрице по туннельным спектрам;
- закуплено оборудование и материалы;
- проведены пуско-наладочные работы приобретенного оборудования;
- составлен промежуточный отчет.
Развернуть
5
01.01.2010 - 30.11.2010
- Проведены пуско-наладочные работы приобретенного оборудования.
- Разработана программа и методика испытания лабораторного образца нанотомографического метрологического комплекса.
- Создан и испытан лабораторный образец нанотомографического метрологического комплекса на основе сканирующей электронной и туннельной микроскопии для обеспечения единства измерений геометрических параметров и топологии оптически непрозрачных наноструктур, скрытых под поверхностью, методами сканирующей туннельной микроскопии и сканирующей электронной микроскопии с помощью отраженных электронов и катодолюминесценции.
- Утверждены проекты методик выполнения измерений геометрических параметров и топологии оптически непрозрачных наноструктур, скрытых под поверхностью (3 шт.).
- Разработаны методики аттестации нанотомографического метрологического комплекса.
- Разработаны методики аттестации методик выполнения измерений геометрических параметров и топологии оптически непрозрачных наноструктур, скрытых под поверхностью (3 шт.).
- Проведена аттестация разработанных методик выполнения измерений геометрических параметров и топологии оптически непрозрачных наноструктур, скрытых под поверхностью в количестве 3 шт.
- Проведена аттестация нанотомографического метрологического комплекса.
- Проведена аттестация образцов эталонных мер в количестве 3-х комплектов.
- Составлен промежуточный отчет.
Развернуть
6
01.01.2011 - 30.04.2011
Осуществлена закупка оборудования и материалов. Разработаны методики калибровки нанотомографического метрологического комплекса. Разработаны проекты стандартов ГОСТ Р на методы калибровки средств измерений параметров оптически непрозрачных наноструктур, скрытых под поверхностью. Разработан комплект нормативно-технических документов по обеспечению единства измерений. Разработаны рекомендации по оснащению эталонными мерами измерительных и аналитических лабораторий. Разработаны проекты национальных стандартов на методику неразрушающей нанотомографии и средства измерений геометрических параметров и топологии наноструктур, скрытых под поверхностью. Разработана техническая документация на созданную аппаратуру.
Развернуть

Программа

Программа "Развитие инфраструктуры наноиндустрии в Российской Федерации на 2008 - 2011 годы"

Программное мероприятие

3.1 Мероприятие по развитию методической составляющей системы обеспечения единства измерений в наноиндустрии и безопасности создания и применения объектов наноиндустрии
Тема
Разработка метода нанотомографии и создание аппаратуры для измерений геометрических параметров и топологии наноструктур скрытых под поверхностью.
Продолжительность работ
2008 - 2010, 25 мес.
Бюджетные средства
20 млн
Количество заявок
1
Тема
Создание методов и средств аттестации и калибровки приборов диагностики геометрических параметров нанорельефа поверхности кристаллических материалов
Продолжительность работ
2005 - 2006, 23 мес.
Бюджетные средства
8 млн
Количество заявок
3
Тема
Создание средств измерений и нормативно-методической базы для выполнения измерений геометрических размеров наночастиц монодисперсных фракций в процессе их получения.
Продолжительность работ
2008 - 2010, 25 мес.
Бюджетные средства
16 млн
Количество заявок
1
Тема
Разработка измерительных методов и аппаратуры для диагностики механических свойств, геометрических параметров, нанотекстуры поверхности и напряженных состояний изделий, получаемых с использованием аддитивных технологий
Продолжительность работ
2017 - 2019, 26 мес.
Бюджетные средства
142 млн
Количество заявок
7
Тема
Создание метрологического комплекса и нормативно-методической базы для обеспечения единства измерений магнитных параметров наноструктур, материалов и продукции наноиндустрии
Продолжительность работ
2008 - 2010, 27 мес.
Бюджетные средства
103 млн
Количество заявок
1