Разработка высокоскоростного выращивания поли- и монокристаллических алмазных пленок и пластин (CVD-технология).
Стадии проекта
Предложение принято
Конкурс завершен
Выполнение этапа проекта
Проект
02.434.11.2014
Организация
ИПФ РАН
Продолжительность работ
2005, 6 мес.
Бюджетные средства
3 млн
Внебюджетные средства
0 млн
Конкурс
Разработка высокоскоростного выращивания поли- и монокристаллических алмазных пленок и пластин (CVD-технология)
разработка высокоскоростного (не менее 15 микрон в час) выращивания поли- и монокристаллических алмазных пленок и пластин большой площади (более 100 см 2) за счет использования нетермических методов стимуляции процесса кристаллизации.
Этапы проекта
1
01.06.2005 - 31.08.2005
Повышение стабильности источников питания гиротрона с целью обеспечения долговременной непрерывной работы. Модернизация охлаждающих систем для модового преобразователя и волноводного тракта.Модернизация системы охлаждаемых квазиоптических зеркал, обеспечивающих стабильное поддержание микроволнового разряда с повышенной плотностью электронов на частоте 30 ГГц вблизи подложки площадью 100 см2.Расчет параметров плазмы и потоков радикалов на подложку в СВЧ разряде в двух встречных волновых пучках, направляемых на подложку под большими углами. Экспериментальное исследование влияния состава и давления газовой смеси, температуры подложки на процесс осаждения алмазных пленок на подложку диаметром 60-75 мм при мощности гиротрона 6-10 кВт.
2
01.09.2005 - 31.10.2005
Исследование структуры и качества получаемых алмазных пленок с помощью рамановской, электронной эмиссионной и атомной силовой спектроскопии. Проведение цикла экспериментов по осаждению алмазных пленок на подложку диаметром 60-75 мм в газовых смесях, содержащих кислород и углекислый газ с целью повышения качества алмазных пленок. Изготовление и испытания автоматической системы управления, контроля и сбора данных CVD реактора, обеспечивающей длительное поддержание требуемых условий синтеза алмазных пленок в реакторе. Получение экспериментальных образцов алмазных пластин диаметром 60-75 мм и толщиной 0,1-0,5 мм.
3
01.11.2005 - 09.12.2005
Исследование структуры и качества получаемых алмазных пленок с помощью рамановской, электронной эмиссионной и атомной силовой спектроскопии. Проведение цикла эксперименотв по осаждению алмазных пленок на подложку диаметром 60-75 мм в газовых смесях, содержащих кислород и углекислый газ с целью повышения качества алмазных пленок. Изготовление и испытания автоматической системы управления, контроля и сбора данных CVD реактора, обеспечивающей длительное поддержание требуемых условий синтеза алмазных пленок в реакторе.
Программа
Программа "Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития науки и техники" на 2002-2006 годы
Программное мероприятие
1.2 Проблемно-ориентированные поисковые исследования фундаментального характера
профинансировано
Разработка методов получения монокристаллических алмазных пластин высокой химической чистоты и высокого кристаллического совершенства для рентгеновских монохроматоров и высокотемпературной электроники.
профинансировано
Исследование путей создания и свойств монокристаллической алмазной плёнки нанометровой толщины
профинансировано
Разработка технологий изготовления двухслойных наноструктурированных алмазно-твердосплавных пластин и компактов для особоизносостойкого режущего и бурового инструмента
профинансировано
Разработка технологии и оборудования наноразмерной обработки алмазным монокристаллическим и абразивным инструментом оптических материалов в режиме квазипластичного резания
Продолжительность работ
2014 - 2016, 28 мес.
Бюджетные средства
72,5 млн
Организация
АО "ВНИИИНСТРУМЕНТ"
профинансировано