Регистрация / Вход
Прислать материал

Разработка технологии нанополировки подложек оксида алюминия и карбида кремния для изготовления мощных электронных и оптоэлектронных приборов на нитридах алюминия и галлия.

Стадии проекта
Предложение принято
Конкурс завершен
Выполнение этапа проекта
Проект
02.467.11.2013

обеспечение создания производства подложек, удовлетворяющих требованиям получения эпитаксиальных структур, применяемых в светодиодах и транзисторах.

Соисполнители

Организация
ООО "КристЭл"
Организация
ООО "Станкотех"

Этапы проекта

1
21.11.2005 - 08.12.2005
Краткое описание выполненных работ по мероприятиям 1.3,1.7:
- Проведен анализ возможности применения имеющихся составных частей ТП, в том числе типовых и групповых.
- Проведен анализ вариантов разработки технологических процессов (ТП) и технологических операций (ТО) нанополировки, исходя из условий и организации конкретного производства, в том числе по использованию имеющегося оборудования.
- Разработаны модели изменения точности ТО во времени и оценка параметров точности ТО.
- Произведен расчет показателей технологичности вариантов ТО и выбор вариантов для дальнейшей разработки.
- Выявлено необходимое для нанополировки подложек новое оборудование и технологическая оснастка.
- Произведен выбор средств и методов контроля (испытаний, анализа, измерений).
- Проведены исследовательские испытания ТП и подложек.
- Оформлена пояснительная записка.
- Изготовлено спецоборудование для полировки подложек и регенерации абразивных материалов.
- Разработана эскизная КД макетного образца комплекта оснастки.
- Изготовлен макетный образец комплекта оснастки.

По мероприятию 2.10:
- Определены задачи патентных исследований, виды исследований и методы их проведения и разработано задание на проведение патентных исследований.
- Проведены предварительные патентные исследования по тематике работы.
Развернуть
2
01.01.2006 - 30.03.2006
по мероприятию 1.7:
- разработан комплекс приборного оснащения испытательных стендов и установок для нанополировки подложек.
- изготовлен комлпекс приборного оснащения для нанополировки опытных партий подложек
по мероприятию 2.2.
- разработана рабочая конструкторская документация на модернизированное оборудование и на унифицированную технологическую оснастку для нанополировки подложек
Развернуть
3
01.01.2006 - 30.06.2006
Результаты работы.
по мероприятию 1.3:
1.) Разработан рабочий проект на комплекс технологий нанополировки подложек оксида алюминия и карбида кремния. Оформлена пояснительная записка.
2.) Разработана технология нанополировки подложек оксида алюминия и карбида кремния для изготовления мощных электронных и оптоэлектронных приборов на нитридах алюминия и галлия, в том числе:
- Разработана рабочая ТД и проекты технических условий (ТУ) на подложки.
- Разработана ПМ предварительных испытаний.
- Проведены предварительных испытания (ПрИ).
- Изготовлены опытные партии подложек, проведены оценки их качества, процента выхода годных и экономических показателей технологического процесса.
- Обеспечение работ исходными заготовками сапфира и карбида кремния проведено ООО «Кристалл-Электроника» (С-Петербург).
- Проведен анализ качества нанополировки опытных партий подложек сапфира и карбида кремния путем проведения на них тестовых процессов эпитаксии (ООО «Кристалл-Электроника» (С-Петербург)).
по мероприятию 2.2:
1.) Изготовлено модернизированное оборудование и унифицированная технологическая оснастка для нанополировки подложек.
2.) Разработана ПМ предварительных испытаний.
3.) Проведены предварительные испытания оборудования и оснастки.
по мероприятию 2.3:
1.) Выполнены работы по анализу рынка (маркетинговые исследования).
2.) Разработан бизнес-план проекта.
по мероприятию 2.10:
1.) Проведены патентные исследования по ГОСТ Р 15.011-96 «СРППП. Патентные исследования».
  Выводы.
1. Признать рабочий проект на комплекс технологий нанополировки подложек оксида алюминия и карбида кремния, разработанный по мероприятиям 1.3., 2.2., соответствующим требованиям Календарного плана и Технического задания.
2. Признать Отчет о маркетинговых исследованиях и Бизнес-план проекта, разработанные по мероприятию 2.3, соответствующим требованиям Календарного плана и Технического задания.
3. Признать Отчет о патентных исследованиях, разработанный по мероприятию 2.10., соответствующим требованиям Календарного плана и Технического задания.
Развернуть
4
01.07.2006 - 08.12.2006
мероприятие 1.3:
1.)Проведены государственные приемочные испытания (ГПИ) Подложек и ТП.
2)Изготовлены опытно-промышленные партии подложек, проведены оценки их качества, процента выхода годных и экономических показателей технологического процесса.
3)Обеспечение работ исходными заготовками сапфира и карбида кремния проведено ООО «Кристалл-Электроника» (С-Петербург).
4)Выполнен анализ качества нанополировки опытно-промышленных партий подложек сапфира и карбида кремния путем проведения на них тестовых процессов эпитаксии. Подготовлены отчеты по результатам тестовой эпитаксии на подложках оксида алюминия и карбида кремния. (ООО «Кристалл-Электроника» (С-Петербург)).
мероприятие 2.2:
1)Выполнена доработка модернизированного оборудования и унифицированной технологической оснастки для нанополировки подложек.
2)Проведены приемочные испытания оборудования и оснастки.
мероприятие 2.3:
1.)Разработан актуализированный бизнес-план проекта.
2.)Разработаны и согласованы предложения по внедрению созданных технологий на конкретных предприятиях промышленности.
мероприятие 2.10:
1.)Выработаны рекомендации по защите прав интеллектуальной собственности.
2.)Подготовлены и поданы на регистрацию заявки на патентование результатов интеллектуальной деятельности.

  Область применения результатов.
Результаты будут использованы для реализации согласованных предложений по внедрению созданных технологий на конкретных предприятиях промышленности.
Для внедрения созданных технологий нанополировки подложек оксида алюминия предлагается следующая кооперация: компанией «Кристалл-Электроника» (г.Санкт-Петербург) будут приобретаться исходные заготовки для дальнейшей обработки, ИК РАН возьмет на себя организацию промышленной нанополировки и финишной подготовки подложек оксида алюминия. Организацию сбыта продукции на внешнем и внутреннем рынках возьмет на себя компания «Кристалл-Электроника», которая будет также осуществлять маркетинг и рекламу готовой продукции.
Внедрение созданных технологий нанополировки подложек карбида кремния планируется проводить в следующей кооперации: компания «Полупроводниковые кристаллы» (г.Санкт-Петербург) выступит поставщиком заготовок для подложек, ИК РАН возьмет на себя организацию промышленной нанополировки подложек карбида кремния, а компания «Кристалл-Электроника» - организацию коммерциализации технологий, их сертификацию, маркетинговые исследования и непосредственную продажу продукции на отечественном и зарубежном рынках.
Развернуть

Программа

Программа "Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития науки и техники" на 2002-2006 годы

Программное мероприятие

1.3 Прикладные разработки в рамках системы приоритетных направлений
Продолжительность работ
2005 - 2006, 15 мес.
Бюджетные средства
10,5 млн
Организация
ПАО "Светлана"
профинансировано
Продолжительность работ
2008, 2 мес.
Бюджетные средства
2,5 млн
Организация
ООО "Аккорд"
профинансировано
Тема
Разработка технологии нанополировки подложек оксида алюминия и карбида кремния для изготовления мощных электронных и оптоэлектронных приборов на нитридах алюминия и галлия.
Продолжительность работ
2005 - 2006, 23 мес.
Бюджетные средства
25 млн
Количество заявок
2
Тема
Разработка конкурентоспособных технологий и создание опытно-промышленного производства подложек лейкосапфира, карбида кремния и нитрида галлия для широкого класса приборов оптоэлектроники и электроники.
Продолжительность работ
2007 - 2009, 26 мес.
Бюджетные средства
300 млн
Количество заявок
2
Тема
Разработка технологии изготовления нитридных гетероструктур на подложках нитрида алюминия для СВЧ-транзисторов.
Продолжительность работ
2005 - 2006, 23 мес.
Бюджетные средства
10,5 млн
Количество заявок
2
Тема
Разработка метода получения высокоомных слоев нитрида алюминия на карбиде кремния.
Продолжительность работ
2008, 2 мес.
Бюджетные средства
2,5 млн
Количество заявок
1
Тема
Разработка технологии и оборудования для обеспечения производства подложек нитрида галлия приборов электроники и оптоэлектроники на основе широкозонных полупроводников.
Продолжительность работ
2005 - 2006, 23 мес.
Бюджетные средства
20 млн
Количество заявок
2