Исследование и разработка конструктивно- технологических решений создания и методов проектирования элементов наноэлектроники

разработаны конструктивно- технологические принципы формирования поверхностных периодических наноструктур на основе кремния, основанные на использовании в качестве твердой маски пористого анодного оксида алюминия и плазменного его травления. Разработаны методы приборно-технологического моделирования функционально-интегрированных элементов концентрации внешнего магнитного поля, обеспечивающих высокую чувствительность магниторезистивных наноструктур. Конструктивно-технологические методы создания магниточувствительных сенсоров на основе структурных схем формирования многослойных магниторезистивных наноструктур. Развит метод нанолитографии на основе локального зондового окисления сверхтонких металлических пленок и ковалентных полупроводников, характеризующейся повышенной производительностью и разрешающей способностью (менее 10 нм). Разработаны методики проведения измерений на основе атомной силовой и магнитной силовой микроскопии, обеспечивающие повышенную разрешающую способность методов. Разработаны подходы к приборно- технологическому моделированию КМДП- структур с размерами 130-65 нм. и методология проектирования для повышения технологичности наноразмерных КМДП – структур.